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外圆抛光设备的湿度会影响抛光

文章来源:/news/43.html发表时间:2019-04-16

外圆抛光设备在抛光的时候,研磨试样和抛光圆盘之间应绝对平行,并轻轻按压在抛光盘上,注意防止试样飞出去,因为压力过大而产生的新的标记。同时还应使样品旋转和沿旋转半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损过快,在抛光过程中要不断添加粉末悬浮液,抛光织物保持一定的湿度。

需要注意的是,外圆抛光设备湿度太大会的磨损降低抛光,在硬质相试样出现浮凸和非金属夹杂物的钢和铸铁的石墨有"尾巴”现象。湿度过。Σ寥然崾寡返奈露龋档腿蠡ッ媸ス庠螅踔恋悖岷辖鸬棺按疵。为了实现粗抛光的目的,要求转盘转速较低,不要超过500r/min。

外圆抛光设备抛光时间应该去除划痕比所需时间较长,因为同时拆下变形层。在粗糙打磨光滑,但黯淡无光,显微镜下穿制服,是精细打磨。精细抛光转盘速度可适当提高,抛光时间去除损伤层粗抛光是合适的。经过精细研磨抛光光亮如镜,看不抓在明场显微镜的条件,但相反的照明条件下仍然看到标志。

外圆抛光设备

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